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    2、清潔介質

    PLAN52不加壓冷卻方式：利用壓力小于工藝流體壓力但不低于大氣壓力的阻隔流體，注入密封室中。由于隔流體壓力小于工藝流體壓力，少量工藝流體泄漏至阻隔流體中，被阻隔流體出密封室，到密封系統(tǒng)或放空系統(tǒng)中進行處理，從而避免工藝流體的直接排放大氣和環(huán)境的污染。

    技術要求：

    1、低壓阻隔流體防止?jié)B漏，但阻隔液壓力不得低于0.7公斤/厘米

    2、阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶

    3、阻隔流體的流向應與軸的旋向相同

    適應場合：

    低沸點、易汽化的介質

    危險品

    不允許介質被污染的制藥行業(yè)

    PLAN53加壓冷卻方式：利用壓力大于工藝流體和大氣壓力的阻隔流體注入密封室中，由于阻隔流體壓力大于工藝流體壓力，防止了工藝流體向阻隔流體的泄漏，從而有效地防止工藝流對大氣和環(huán)境的污染。

    技術要求:

    1、阻隔流體壓力至少比密封腔壓力高1-2公斤/厘米

    2、阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶

    3、阻隔流體的流向應與軸的旋向相同

    適應場合：

    易結晶或固化的介質

    易聚合介質

    常溫含顆粒的介質

    PLAN54加壓冷卻方式：利用加壓泵給阻隔流體加壓，壓力比工藝流體壓高1-2公斤/厘米2一方面，提高阻隔流體的循環(huán)速度，加快對密封面的冷卻；另一方面，阻止工藝流體通過內側密封向阻隔流體系統(tǒng)的泄漏，避免工藝流體對大氣和環(huán)境的污染。

    技術要求：

    1、阻隔流體壓力比密封腔內工藝流體壓力高1-2公斤/厘米